首页> 外文OA文献 >Substrate-biasing during plasma-assisted atomic layer deposition to tailor metal-oxide thin film growth

【2h】

Substrate-biasing during plasma-assisted atomic layer deposition to tailor metal-oxide thin film growth

机译：等离子体辅助原子层沉积过程中的衬底偏置，以调整金属氧化物薄膜的生长

代理获取

本网站仅为用户提供外文OA文献查询和代理获取服务，本网站没有原文。下单后我们将采用程序或人工为您竭诚获取高质量的原文，但由于OA文献来源多样且变更频繁，仍可能出现获取不到、文献不完整或与标题不符等情况，如果获取不到我们将提供退款服务。请知悉。

页面导航

著录项
引文网络
相似文献
相关主题

著录项

作者
Profijt, HB Harald; Sanden, van de, MCM Richard; Kessels, WMM Erwin;
展开▼
作者单位

展开▼
年度 2013
总页数
原文格式 PDF
正文语种
中图分类

相似文献

外文文献
中文文献
专利

1. Substrate-biasing during plasma-assisted atomic layer deposition to tailor metal-oxide thin film growth [J] . Profijt H. B., van de Sanden M. C. M., Kessels W. M. M. Journal of Vacuum Science & Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films . 2013,第1期

机译：等离子体辅助原子层沉积过程中的衬底偏置，以调整金属氧化物薄膜的生长
2. In situ spectroscopic ellipsometry study on the growth of ultrathin TiN films by plasma-assisted atomic layer deposition [J] . E. Langereis, S. B. S. Heil, M. C. M. van de Sanden, Journal of Applied Physics . 2006,第2期

机译：等离子体辅助原子层沉积法原位光谱椭偏法研究超薄TiN薄膜的生长
3. Growth and Characterization of Aluminum Oxide(Al_2O_3) Thin Films by Plasma-Assisted Atomic Layer Controlled Deposition [J] . Chang-Wook Jeong, Jang-Sik Lee Journal of Korean Institute of Metal and Materials . 2000,第10期

机译：等离子体辅助原子层控制沉积法制备氧化铝（Al_2O_3）薄膜及其表征
4. Preparation of ZnO thin films by plasma-assisted atomic layer deposition for the application to thin film transistors [C] . Tani Mai, Kawamura Yumi, Horita Masahiro, 2011 International Meeting for Future of Electron Devices, Kansai . 2011

机译：通过等离子体辅助原子层沉积制备ZnO薄膜，以应用于薄膜晶体管
5. Metallorganic chemical vapor deposition and atomic layer deposition approaches for the growth of hafnium-based thin films from dialkylamide precursors for advanced CMOS gate stack applications [D] . Consiglio, Steven P. 2007

机译：金属有机化学气相沉积和原子层沉积方法，用于从二烷基酰胺前体中生长ha基薄膜，用于高级CMOS栅极堆叠应用
6. Plasma-Assisted Atomic Layer Deposition of High-Density Ni Nanoparticles for Amorphous In-Ga-Zn-O Thin Film Transistor Memory [O] . Shi-Bing Qian, Yong-Ping Wang, Yan Shao, 2017

机译：高密度Ni纳米粒子的等离子体辅助原子层沉积用于非晶In-Ga-Zn-O薄膜晶体管存储
7. Substrate-biasing during plasma-assisted atomic layer deposition to tailor metal-oxide thin film growth [O] . Profijt, H. B., M. C. M. van de Sanden, Kessele, W. M. M. 2013

机译：等离子体辅助原子层沉积过程中的衬底偏置，以调整金属氧化物薄膜的生长

Substrate-biasing during plasma-assisted atomic layer deposition to tailor metal-oxide thin film growth

著录项

引文网络

相似文献

相关主题

期刊订阅